An apparatus for improving electromigration reliability and resistance of a single- or dual-damascene via includes an imperfect barrier formed at the bottom of the via, and a stronger barrier formed at all other portions of the via. The imperfect barrier allows for metal atoms, such as copper atoms, to flow therethrough when the electromigration force pushes the metal atoms against the barrier. That way, the metal atoms that are pushed away from the downstream side of the barrier are replaced by metal atoms that flow through the barrier from the upstream side of the barrier. The imperfect barrier may be formed by biasing a wafer, and having the atoms resputter from the bottom of the via and adhere to the sidewalls of the via. The imperfect barrier may also be formed by a two-layered barrier, where a first layer corresponds to a good step coverage, poor barrier, and where the second barrier corresponds to a poor step coverage, good barrier. The imperfect barrier may also be formed by depositing the barrier conformally, and providing a directional etch to the portions of the barrier that are deposited to the bottom of the via.

Un appareil pour améliorer le sérieux d'électromigration et la résistance d'un simple ou d'un duel-Damascène par l'intermédiaire de inclut une barrière imparfaite formée au fond du par l'intermédiaire de, et une barrière plus forte formée à toutes autres parties de par l'intermédiaire de. La barrière imparfaite tient compte des atomes en métal, tels que les atomes de cuivre, pour couler par là quand la force d'électromigration pousse les atomes en métal contre la barrière. De cette façon, les atomes en métal qui sont éloignés du côté descendant de la barrière sont remplacées par les atomes en métal qui traversent la barrière du côté ascendant de la barrière. La barrière imparfaite peut être constituée en polarisant une gaufrette, et en ayant le resputter d'atomes du fond du par l'intermédiaire de et adhérer aux parois latérales du par l'intermédiaire de. La barrière imparfaite peut également être constituée par une barrière deux-posée, où une première couche correspond à une bonne assurance d'étape, barrière faible, et où la deuxième barrière correspond à une assurance faible d'étape, bonne barrière. La barrière imparfaite peut également être constituée en déposant la barrière conformally, et en fournissant gravure à l'eau forte directionnelle aux parties de la barrière par l'intermédiaire de la laquelle sont déposés au fond du.