A radiation sensitive resin composition comprising (A) a fluorine-containing copolymer of hexafluoropropylene, at least one compound selected from the group consisting of unsaturated carboxylic acids and unsaturated carboxylic anhydrides, and an unsaturated compound (B) an acid generating compound which generates an acid upon exposure to radiation; (C) a cross-linkable compound; and (D) an organic solvent. The composition suitable is useful for a negative resist for forming a mask for the production of a circuit such as a semiconductor integrated circuit or a thin film transistor circuit for liquid crystal displays as well as a material for forming a permanent film such as an interlaminar insulating film or a color filter protective film.

Una composizione sensibile nella resina di radiazione che contiene (A) un copolimero contenente fluoro il hexafluoropropylene, almeno un residuo scelto dagli acidi carbossilici insaturi consistenti del gruppo e dalle anidridi carbossiliche insature e un residuo insaturo (B) un acido che genera residuo che genera un acido su esposizione a radiazione; (C) un residuo reticolato; e (D) un solvente organico. La composizione adatta รจ utile per una negazione resiste a per formare una mascherina per la produzione di un circuito quale un circuito integrato a semiconduttore o di un circuito del transistore della pellicola sottile per i display a cristalli liquidi come pure un materiale per formare una pellicola permanente quali una pellicola isolante interlaminar o una pellicola protettiva del filtrante di colore.

 
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