The invention provides a plasma equipment which is advantageous in that the suscepter impedance is small, the dependence on the frequency is low, the power consumption efficiency is high, the film forming speed is faster as compared with conventional plasma equipment, and the film quality is high. Metal plates AC short between a chamber wall and a shield of an electrode of the same DC potential as the chamber.

A invenção fornece um equipamento do plasma que seja vantajoso que o impedance do suscepter é pequeno, a dependência na freqüência é baixo, a eficiência do consumo de potência é elevada, a película que dá forma à velocidade é mais rápida em comparação ao equipamento convencional do plasma, e a qualidade da película é elevada. O metal chapeia o short da C. A. entre uma parede da câmara e um protetor de um elétrodo do mesmo potencial da C.C. que a câmara.