In a projection optical system having at least two silica glass optical members, a birefringence value is measured at each of points in a plane normal to the optical axis with the center at an intersection of each optical member with the optical axis, a distribution of signed birefringence values in each optical member is obtained by assigning a positive sign to each birefringence value when a direction of the fast axis thereof is a radial direction to the intersection with the optical axis and assigning a negative sign to each birefringence value when the direction of the fast axis thereof is normal to the radial direction, and the optical members are combined with each other so as to satisfy such a placement condition that a signed birefringence characteristic value of the entire projection optical system calculated based on the distributions of signed birefringence values is between -0.5 and +0.5 nm/cm both inclusive. This permits minimization of influence from nonuniform distribution of birefringence values in the optical members on the imaging performance of the projection optical system or on the resolution of projection exposure apparatus and in turn enables provision of the projection optical system with high imaging performance, a production method thereof, and the projection exposure apparatus capable of achieving high resolution.

Σε ένα οπτικό σύστημα προβολής που έχει τουλάχιστον δύο οπτικά μέλη γυαλιού πυριτίου, μια birefringence αξία μετριέται σε κάθε ένα από τα σημεία σε ένα αεροπλάνο κανονικό στον οπτικό άξονα με το κέντρο σε μια διατομή κάθε οπτικού μέλους με τον οπτικό άξονα, μια διανομή των υπογεγραμμένων birefringence τιμών σε κάθε οπτικό μέλος λαμβάνεται με την ανάθεση ενός θετικού σημαδιού σε κάθε birefringence αξία όταν μια κατεύθυνση του γρήγορου άξονα είναι επ' αυτού μια ακτινωτή κατεύθυνση στη διατομή με τον οπτικό άξονα και διορίζοντας ένα αρνητικό σημάδι σε κάθε birefringence αξία όταν η κατεύθυνση του γρήγορου άξονα είναι επ' αυτού κανονική στην ακτινωτή κατεύθυνση, και τα οπτικά μέλη συνδυάζεται ο ένας με τον άλλον έτσι όπως ένας τέτοιος όρος τοποθέτησης ότι μια υπογεγραμμένη birefringence χαρακτηριστική αξία του ολόκληρου οπτικού συστήματος προβολής υπολόγισε βασισμένος στις διανομές των υπογεγραμμένων birefringence τιμών είναι μεταξύ -0,5 και + 0,5 NM/ekat. και οι δύο συμπεριλαμβάνουσες. Αυτό επιτρέπει την ελαχιστοποίηση της επιρροής από την ανομοιόμορφη διανομή birefringence των τιμών στα οπτικά μέλη στην απόδοση απεικόνισης του οπτικού συστήματος προβολής ή στην ανάλυση των συσκευών έκθεσης προβολής και επιτρέπει στη συνέχεια την παροχή οπτικού συστήματος προβολής με την υψηλή απόδοση απεικόνισης, μια μέθοδο παραγωγής επ' αυτού, και τις συσκευές έκθεσης προβολής ικανές την υψηλή ανάλυση.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Dual-socket interposer and method of fabrication therefor

> Power system having a radioisotope heat source

> (none)

~ 00031