Silicon-chromium cathode targets comprising 5 to 80 weight percent chromium are disclosed for sputtering absorbing coatings of silicon-chromium alloy in atmospheres comprising inert gas, reactive gases such as nitrogen, oxygen, and mixtures thereof which may further comprise inert gas, such as argon, to form nitrides, oxides, and oxynitrides as well as metallic films. The presence of chromium in the cathode target provides target stability and enhanced sputtering rates over targets of silicon alone, comparable to the target stability and sputtering rates of silicon-nickel, for sputtering in oxygen, inert gas, nitrogen or a mixture of nitrogen and oxygen. The chromium in the target may be replaced in part with nickel to produce coatings of silicon-chromium-nickel and the oxides, nitrides and oxynitrides thereof.

las blancos del cátodo del Silicio-cromo que abarcan el cromo de 5 a 80 por ciento del peso se divulgan para las capas absorbentes de la farfulla de aleación del silicio-cromo en las atmósferas que abarcan el gas inerte, los gases reactivos tales como nitrógeno, el oxígeno, y las mezclas de eso que pueden abarcar más lejos el gas inerte, tal como argón, para formar los nitruros, los óxidos, y los oxynitrides así como las películas metálicas. La presencia del cromo en la blanco del cátodo proporciona estabilidad de la blanco y tarifas realzadas de la farfulla sobre las blancos del silicio solas, comparables a la estabilidad de la blanco y los índices de la farfulla del silicio-ni'quel, para farfullar en oxígeno, del gas inerte, del nitrógeno o de una mezcla del nitrógeno y del oxígeno. El cromo en la blanco se puede substituir en parte por el níquel para producir capas de silicio-cromo-ni'quel y los óxidos, los nitruros y los oxynitrides de eso.