A method and apparatus for depositing a film by chemical vapor deposition comprises a showerhead for dispersing reactant gases into the processing space wherein the showerhead has a first space therein operable for receiving and dispersing the first reacting gas, and has a second space therein, generally isolated from the first space, and operable for receiving and dispersing the second reactant gas separate from the first gas dispersion for maintaining segregation of reactant gases and generally preventing premature mixture of the gases prior to their introduction into the processing space to prevent premature deposition in the system.

Un metodo e un apparecchio per depositare una pellicola tramite il deposito di vapore chimico contiene uno showerhead per i gas di dispersione del reattivo nello spazio d'elaborazione in cui lo showerhead ha un primo spazio in ciò operabile per la ricezione e la dispersione del primo gas di reazione e un secondo spazio in ciò, generalmente si è isolato dal primo spazio ed operabile per la ricezione e la dispersione del secondo gas del reattivo a parte dalla prima dispersione del gas per la segregazione effettuante dei gas del reattivo e generalmente impedire la miscela prematura dei gas prima della loro introduzione nello spazio d'elaborazione per impedire il deposito prematuro nel sistema.