The present invention relates to an apparatus for creating a pattern on a workpiece sensitive to radiation, such as a photomask, a display panel or a microoptical device. The apparatus comprises a radiation source, a spatial modulator (SLM) having a multitude of modulating elements (pixels), a projection system, an electronic data processing and delivery system controlling the modulator and a precision mechanical system for moving said workpiece. Specifically, the pixels could be set in a number of states larger than two, and the electronic processing system is adapted to create one type of pixel map inside pattern features, another type of pixel map outside features, and intermediate pixel maps at a boundary. The intermediate pixel map is generated in dependence on the placement of the boundary in a grid finer than that of the pixels of the SLM projected on the workpiece.

De onderhavige uitvinding heeft op een apparaat om een patroon op een werkstuk tot stand te brengen gevoelig voor straling, zoals een photomask, een vertoningspaneel of een micro-optisch apparaat betrekking. Het apparaat bestaat uit een stralingsbron, uit een ruimtemodulator (SLM) een massa het moduleren van elementen (pixel) hebben, uit een projectiesysteem, uit een elektronische gegevensverwerking en uit een leveringssysteem de modulator controleren en uit een precisie mechanisch systeem die om bovengenoemd werkstuk te bewegen. Specifiek, zouden de pixel in een aantal staten kunnen worden geplaatst groter dan twee, en het elektronische verwerkingssysteem wordt aangepast om tot één type van pixelkaart binnen patrooneigenschappen, een ander type van pixelkaart buiten eigenschappen, en middenpixelkaarten bij een grens te leiden. De middenpixelkaart wordt in afhankelijkheid van de plaatsing van de grens in een net fijner dan dat van de pixel van SLM geproduceerd die op het werkstuk wordt ontworpen.