A transparent optical device is provided with a transparent medium having a front side, at least a portion of the front side being adapted for receiving light. A porous layer is formed on substantially all areas of the front side which are adapted for receiving light. The transparent optical device may have a recessed surface area which is recessed below a remainder area of the front side to define a phase shift photomask. The transparent medium may be made of synthesized silica. The porous layer may be formed by reactive ion etching using gaseous plasma of halogenized hydrocarbon. The front side of the transparent medium may have a portion not adapted for receiving light which may have a metal pattern formed thereon. In producing the transparent optical mask, the porous layer may be formed before or after the metal pattern. The transparent optical device may be formed in an etching chamber in which etching depth is monitored by measuring the transmissivity of a preselected portion of the transparent medium.

Eine transparente optische Vorrichtung wird mit einem transparenten Mittel versehen, das ein Vorderseite, mindestens einen Teil vom Vorderseite hat, das für das Empfangen des Lichtes angepaßt wird. Eine poröse Schicht wird auf im wesentlichen allen Bereichen des Vorderseite gebildet, die für das Empfangen des Lichtes angepaßt werden. Die transparente optische Vorrichtung kann eine vertiefte Fläche haben, die unterhalb eines Restbereichs des Vorderseite vertieft wird, um eine Phasenverschiebung Photomaske zu definieren. Das transparente Mittel kann von synthetisiertem Silikon gebildet werden. Die poröse Schicht kann durch die reagierende Ionenradierung gebildet werden, die gasförmiges Plasma von verwendet, halogenized Kohlenwasserstoff. Das Vorderseite des transparenten Mittels kann einen Teil haben, der nicht für das Empfangen des Lichtes angepaßt wird, das ein Metallmuster haben kann, das darauf gebildet wird. Wenn man die transparente optische Schablone produziert, kann die poröse Schicht vor oder nach dem Metallmuster gebildet werden. Die transparente optische Vorrichtung kann in einem Radierung Raum gebildet werden, in dem Radierung Tiefe überwacht wird, indem man die Transmissivität eines vorgewählten Teils des transparenten Mittels mißt.