A processing station adaptable to standard cluster tools has a vertically-translatable pedestal having an upper wafer-support surface including a heater plate adapted to be plugged into a unique feedthrough in the pedestal. At a lower position for the pedestal wafers may be transferred to and from the processing station, and at an upper position for the pedestal the pedestal forms an annular pumping passage with a lower circular opening in a processing chamber. A removable, replaceable ring at the lower opening of the processing chamber allows process pumping speed to be tailored for different processes by replacing the ring. In some embodiments the pedestal also has a surrounding shroud defining an annular pumping passage around the pedestal. A unique two-zone heater plate is adapted to the top of the pedestal, and connects to a unique feedthrough allowing heater plates to be quickly and simply replaced. In some embodiments the top of the processing chamber is removable allowing users to remove either pedestals or heater assemblies. Or both, through the open top of a processing station. In preferred embodiments the system is adapted to atomic layer deposition processing.

Eine verarbeitenstation, die zu den Standardblockwerkzeugen anpassungsfähig ist, hat einen vertikal-übersetzbaren Untersatz, ein oberes zu haben Oblate-stützen Oberfläche einschließlich eine Heizung Platte, die angepaßt wird, in einen einzigartigen Wassertank im Untersatz verstopft zu werden. In einer niedrigeren Position für Untersatz können die Oblaten nach und von der verarbeitenstation gebracht werden, und in einer oberen Position für den Untersatz bildet der Untersatz einen ringförmigen pumpenden Durchgang mit einer niedrigeren kreisförmigen Öffnung in einem verarbeitenraum. Ein entfernbarer, austauschbarer Ring an der niedrigeren Öffnung des verarbeitenraumes erlaubt, daß pumpende Geschwindigkeit des Prozesses für unterschiedliche Prozesse hergestellt wird, indem er den Ring ersetzt. In einigen Verkörperungen hat der Untersatz auch einen umgebenden Abschirmrahmen, einen ringförmigen pumpenden Durchgang um den Untersatz zu definieren. Eine einzigartige Zweizone Heizung Platte wird der Oberseite des Untersatzes angepaßt, und anschließt an einen einzigartigen Wassertank, Heizung Platten schnell sein lassend und ersetzte einfach. In einigen Verkörperungen ist die Oberseite des verarbeitenraumes entfernbar, Benutzern erlaubend, entweder Untersätze oder Heizungen zu entfernen. Oder beide, durch die geöffnete Oberseite einer verarbeitenstation. In bevorzugten Verkörperungen wird das System der Atomschichtabsetzungverarbeitung angepaßt.