A resist material having a resist and particles mixed into the resist, a major component of the particles being a cluster of carbon atoms, is provided. A method for fabricating a resist material is also provided, the method repeatedly performing: a first step of coating a substrate with a resist film; and a second step of depositing particles whose major component is a cluster of carbon atoms on the resist film. Accordingly, a resist film with high etching resistance can be obtained, and it is possible to realize a reduction in the thickness of the resist film, improvements of contrast of resist patterns; resist sensitivity; heat resistance of resist films; mechanical strength of resist patterns; and further, stabilization of resist sensitivity. Therefore, highly precise fine pattern fabrication can be realized.

Обеспечен материалом сопротивлять имея сопротивлять и частицы смешанные в сопротивлять, главный компонент частиц группа атомов углерода. Метод для изготовлять материал сопротивлять также обеспечен, метод повторно выполняя: первыйа шаг покрывать субстрат с пленкой сопротивлять; и второй шаг депозируя частиц главным компонентом будет группа атомов углерода на пленке сопротивлять. Соответственно, пленка сопротивлять с высоким сопротивлением вытравливания смогите быть получено, и по возможности осуществить уменьшение в толщине пленки сопротивлять, улучшениях контраста сопротивляет картинам; сопротивляйте чувствительности; сопротивление жары сопротивляет пленкам; механически прочность сопротивляет картинам; и продвиньте, стабилизация сопротивляйте чувствительности. Поэтому, высоки точное точное изготовление картины можно осуществить.