The present invention has as an object thereof to provide a cleaning method which realizes, in the cleaning process, (1) a reduction in the number of processes, (2) a simplification of the cleaning apparatus, and (3) a reduction in the amount of chemicals and pure water employed, and which has highly superior cleaning effects and does not damage the substrate body, as well as to provide a rinsing method which aids in the hydrogen termination of silicon atoms.

La actual invención tiene como objeto de eso para proporcionar un método de limpieza que realice, en el proceso de la limpieza, (1) una reducción en el número de procesos, (2) una simplificación del aparato de la limpieza, y (3) una reducción en la cantidad de productos químicos y de agua pura empleados, y que tiene efectos de limpieza altamente superiores y no daña el cuerpo del substrato, así como proporcionar un método que aclara que ayuda en la terminación del hidrógeno de los átomos del silicio.