Disclosed is a system and method for detecting the position of a wafer with respect to a calibrated reference position. In one embodiment of the invention, sensors are used to detect the edges of the wafer as the wafer is being passed over the sensors. This wafer detection information is then used to calculate the amount by which the wafer is off-centered such that corrections can be made before the wafer is placed onto a destination location.

Показаны система и метод для обнаруживать положение вафли с уважением к откалибрированному положению справки. В одном воплощении вымысла, датчики использованы для того чтобы обнаружить края вафли по мере того как вафля пропускается над датчиками. Эти данные по обнаружения вафли после этого использованы для того чтобы высчитать количество вафля нецентральна такие что коррекции можно сделать прежде чем вафля помещена на положение назначения.