The invention includes a material containing aluminum grains which have an average grain size of less than 20 .mu.m. The material contains manganese, with a total non-aluminum content of 0.01 to 10.0% by weight. The material is preferably used as a sputtering target. A sputtering target is produced by subjecting the material to plastic working at a processing percentage of at least 5% at a processing rate of at least 100%/second.

Вымысел вклюает материальные содержа алюминиевые зерна имеют средний размер зерна меньш mu.m чем 20. Материал содержит маргаец, с полным содержанием нон-alhmini4 0.01 к 10.0% весом. Материал предпочтительн использован по мере того как цель sputtering. Цель sputtering произведена путем подвергать материал к пластмассе работая на обрабатывая проценте по крайней мере 5% на обрабатывая тарифе по крайней мере й00%/сечонд.