An unbalanced magnetron sputter ion plating system has a first magnetron with a first target of metal sulphide (e.g. MoS.sub.2) and a second magnetron with a second target of metal (e.g. Titanium). In order to recover water and sulphur impurities from the surfaces of the coating chamber the metal target is energised in a pre-coating ion cleaning operation. The Titanium target remains energised during the deposition of the molybdenum-sulphur coating to produce a Mo.sub.x Ti.sub.y S.sub.z coating where x+y.apprxeq.1 and Z.apprxeq.2. Best results are achieved if the Titanium content is about 18% or less by weight of the total coating content.

Un magnetrón desequilibrado farfulla el sistema de la galjanoplastia del ion tiene un primer magnetrón con una primera blanco del sulfuro del metal (e.g. MoS.sub.2) y un segundo magnetrón con una segunda blanco del metal (e.g. titanio). Para recuperar impurezas del agua y del sulfuro de las superficies del compartimiento de capa la blanco del metal se energiza en una limpieza del ion que cubre primero. El restos titanium de la blanco energizado durante la deposición de la capa del molibdeno-sulfuro para producir una capa de Mo.sub.x Ti.sub.y S.sub.z donde x+y.apprxeq.1 y Z.apprxeq.2. Se alcanzan los mejores resultados si el contenido titanium es el cerca de 18% o menos en peso de el contenido de capa total.