This invention is directed to a method and apparatus of delaying the reaction between a first reactive gas and a second reactive gas as the first reactive gas flows into the second reactive gas. The method comprises the steps of surrounding the first reactive gas with a non-reactive gas to form an insulated first reactive gas; and flowing the insulated first reactive gas into the second reactive gas. A sweep gas is used to impart momentum to the insulated first reactive gas. The apparatus comprises three coaxial tubular members which are used to introduce the first reaction gas, the non-reactive gas, and the sweep gas. The apparatus may be installed in a semiconductor device fabrication process either just upstream of the house exhaust line or upstream of an ODC or air pollution abatement device.

Questa invenzione è diretta verso un metodo e un apparecchio di delaying la reazione fra un primo gas reattivo e un secondo gas reattivo mentre il primo gas reattivo fluisce nel secondo gas reattivo. Il metodo contiene i punti circondare il primo gas reattivo con un gas non-reactive per formare un primo gas reattivo isolato; e fluendo il primo gas reattivo isolato nel secondo gas reattivo. Un gas di spazzata è usato per comunicare la quantità di moto al primo gas reattivo isolato. L'apparecchio contiene tre elementi tubolari coassiali che sono usati per introdurre il primo gas di reazione, il gas non-reactive ed il gas di spazzata. L'apparecchio può essere installato in un processo di montaggio del dispositivo a semiconduttore appena controcorrente dalla linea dello scarico della casa o controcorrente da un ODC o da un dispositivo di riduzione di inquinamento atmosferico.