A clear phase shifting mask, particularly adapted to imaging nanostructures using X-ray lithography, includes a membrane having generally planar top and bottom surfaces the membrane being substantially transparent to the incoming radiation. In addition, the mask includes a pair of phase shift regions supported on the membrane, each of the regions defining a corresponding edge. During an imaging operation, the mask generates an aerial image defining, for each of the corresponding edges, an edge bright peak and an edge dark peak. By suitable choices of widths on the mask, the edge bright peaks can be caused to constructively interfere to form an enhanced intensity image bright peak. According to another embodiment, aphase shifting mask that images two-dimensional features on a target using the bright peak of the corresponding aerial image includes a membrane and a phase shifting material supported by the membrane. The phase shifting material defines an aperture that includes two pairs of opposed edges, each pair being separated by an associated perpendicular distance that is selected to facilitate constructive interference of the edge bright peaks to produce an enhanced intensity image bright peak that is used to image the two-dimensional feature.

Un masque de déphasage clair, en particulier adapté aux nanostructures de formation image en utilisant la lithographie de rayon X, inclut une membrane ayant les fonds de dessus et généralement planaires la membrane étant essentiellement transparente au rayonnement entrant. En outre, le masque inclut une paire de régions de déphasage soutenues sur la membrane, chacune des régions définissant un bord correspondant. Pendant une opération de formation image, le masque produit d'une image aérienne définissant, pour chacun des bords correspondants, une crête lumineuse de bord et une crête d'obscurité de bord. Par des choix appropriés des largeurs sur le masque, les crêtes lumineuses de bord peuvent être provoquées pour s'y mêler de manière constructive pour former une crête lumineuse augmentée d'image d'intensité. Selon une autre incorporation, masque de décalage d'aphase que les dispositifs bidimensionnels d'images sur une cible employant la crête lumineuse de l'image aérienne correspondante inclut une membrane et un matériel de déphasage soutenus par la membrane. Le matériel de déphasage définit une ouverture qui inclut deux paires de bords opposés, chaque paire séparé par une distance perpendiculaire associée qui est choisie pour faciliter l'interférence constructive des crêtes lumineuses de bord pour produire une crête lumineuse augmentée d'image d'intensité qui est employée à l'image le dispositif bidimensionnel.