An object of the invention is to provide a dielectric porcelain composition with low rate of phase change of a cordierite phase as a primary crystal phase, in which as a result of the low rate of phase change the dielectric constant is from 4.5 to 6 and Q value is 1,000 or more at 60 GHz, and to provide a dielectric resonator and nonradiative dielectric strip using the same. The dielectric porcelain composition comprises, as a principal component, a complex oxide having a molar composition xMgO.multidot.yAl.sub.2 O.sub.3.multidot.zSiO.sub.2 (wherein 10.ltoreq.x.ltoreq.40, 10.ltoreq.y.ltoreq.40, 20.ltoreq.z.ltoreq.80 , and x+y+z=100), and a ratio of a (241) peak intensity .beta.p(241) and a (222) peak intensity .beta.p(222) of X-ray diffraction of a .beta. phase of a 2MgO.multidot.2Al.sub.2 O.sub.3.multidot.5SiO.sub.2 phase, which is a primary crystalline phase of the complex oxide, is 0.8.ltoreq..beta.p(241)/.beta.p(222).ltoreq.1.3.

Een doel van de uitvinding is een diëlektrische porseleinsamenstelling van laag tarief van faseverandering van een cordierietfase te voorzien aangezien een primaire kristalfase, waarin als resultaat van het lage tarief van fase de diëlektrische constante verander van 4,5 tot 6 is en de waarde van Q 1.000 of meer 60 GHz bedraagt, en een diëlektrische resonator en een nonradiative diëlektrische strook te verstrekken die het zelfde gebruikt. De diëlektrische porseleinsamenstelling bestaat uit, aangezien een belangrijkste component, een complex oxyde dat een maalsamenstelling xMgO.multidot.yAl.sub.2 O.sub.3.multidot.zSiO.sub.2 heeft (waarin 10.ltoreq.x.ltoreq.40, 10.ltoreq.y.ltoreq.40, 20.ltoreq.z.ltoreq.80, en x+y+z=100), en een verhouding van een (241) piekintensiteit beta.p (241) en een (222) piekintensiteit beta.p (222) van X-ray diffractie van een beta. fase van een fase 2MgO.multidot.2Al.sub.2 O.sub.3.multidot.5SiO.sub.2, die een primaire kristallijne fase van het complexe oxyde is, 0.8.ltoreq..beta.p(241)/beta.p(222).ltoreq.1.3 zijn.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Wiring substrate for high frequency applications

> Lens barrier for a camera

> (none)

~ 00042