A litho strip for use as an offset printing plate is described which has a composition of 0.05-0.25% Si, 0.30-0.40% Fe, 0.10-0.30% Mg, max. 0.05% Mn, and max. 0.04% Cu. The strip is produced from a continuous cast ingot of the above composition which is hot rolled to a thickness of up to 2-7 mm. The residual resistance ratio of the hot rolled strip is RR=10-20. The cold rolling is carried out with or without intermediate annealing, wherein the degree of rolling reduction after intermediate annealing is >60%. The further processing up to the EC roughening takes place with the microstructure adjusted in the rolling process at <100.degree. C. The litho strip is characterized by a high thermal stability, a good roughening behavior in the EC processes, and a high reverse bending fatigue strength perpendicular to the rolling direction.

Una striscia di litho per uso come piastra di stampa in offset è descritta che ha una composizione di 0.05-0.25% siliconi, 0.30-0.40% Fe, 0.10-0.30% magnesii, massimo. 0.05% Manganese e massimo. 0.04% Cu. La striscia è prodotta da un lingotto continuo del getto di suddetta composizione che è laminata a caldo ad uno spessore di fino a 2-7 millimetri. Il rapporto residuo di resistenza del nastro laminato a caldo è RR=10-20. Il rolling freddo è effettuato con o senza la ricottura intermedia, in cui il grado di riduzione di rolling dopo la ricottura intermedia è 60%. La trasformazione più ulteriore fino all'EC che si irruvidisce avviene con la microstruttura registrata nel processo di rolling a