A new method for CVD deposition on a substrate is taught wherein radical species are used in alternate steps to depositions from a molecular precursor to treat the material deposited from the molecular precursor and to prepare the substrate surface with a reactive chemical in preparation for the next molecular precursor step. By repetitive cycles a composite integrated film is produced. In a preferred embodiment the depositions from the molecular precursor are metals, and the radicals in the alternate steps are used to remove ligands left from the metal precursor reactions, and to oxidize or nitridize the metal surface in subsequent layers. A variety of alternative chemistries are taught for different films, and hardware combinations to practice the invention are taught as well.

Un nuevo método para la deposición del CVD en un substrato se enseña en donde las especies radicales se utilizan en pasos alternos a las deposiciones de un precursor molecular para tratar el material depositado del precursor molecular y para preparar la superficie del substrato con un producto químico reactivo en la preparación para el paso molecular siguiente del precursor. Por los ciclos repetidores una película integrada compuesta es producida. En una encarnación preferida las deposiciones del precursor molecular son metales, y los radicales en los pasos alternos se utilizan para quitar ligands a la izquierda de las reacciones del precursor del metal, y para oxidar o nitridize la superficie del metal en capas subsecuentes. Una variedad de químicas alternativas se enseña para diversas películas, y las combinaciones del hardware para practicar la invención se enseñan también.