A new method for CVD deposition on a substrate is taught wherein radical species are used in alternate steps to depositions from a molecular precursor to treat the material deposited from the molecular precursor and to prepare the substrate surface with a reactive chemical in preparation for the next molecular precursor step. By repetitive cycles a composite integrated film is produced. In a preferred embodiment the depositions from the molecular precursor are metals, and the radicals in the alternate steps are used to remove ligands left from the metal precursor reactions, and to oxidize or nitridize the metal surface subsequent layers. A variety of alternative chemistries are taught for different films, and hardware combinations to practice the invention are taught as well.

Научен новый метод для низложения cvd на субстрате при котором радикальные виды использованы в других шагах к низложениям от молекулярного прекурсора для того чтобы обработать материал депозированный от молекулярного прекурсора и подготовить поверхность субстрата с реактивным химикатом in preparation for следующий молекулярный шаг прекурсора. repetitive циклами составная интегрированная пленка произведена. В предпочитаемом воплощении низложениями от молекулярного прекурсора будут металлы, и радикалы в других шагах использованы для того чтобы извлечь ligands налево от реакций прекурсора металла, и окислить или nitridize слои поверхности металла затем. Разнообразие других химий научено для по-разному пленок, и комбинации оборудования для того чтобы напрактиковать вымысел научены также.