A film-forming apparatus comprising a vacuum chamber, a power application
electrode, a raw material gas introduction portion through which a raw
material gas is introduced into the vacuum chamber, and an exhaustion
portion through which the vacuum chamber is exhausted, the power
application electrode being arranged so as to oppose a substrate for film
formation positioned in the vacuum chamber, characterized in that at least
said raw material gas introduction portion or the exhaustion portion is
provided with an opening adjusting member having a desired thickness for
intercepting the plasma, and the power application electrode and the
opening adjusting member are arranged to satisfy an equation a or
c.gtoreq.b, with a being a shortest distance between the power application
electrode and the opening adjusting member provided at the raw material
gas introduction portion, c being a shortest distance between the power
application electrode and the opening adjusting member provided at the
exhaustion portion, and b being an average distance between the substrate
and a horizontal plane face of the power application electrode which is
opposed to a face of the substrate.
Film-forming прибор состоя из камеры вакуума, электрода применения силы, части введения газа сыройа материал через которую газ сыройа материал введен в камеру вакуума, и части высасывания через которую камера вакуума вымотана, будучи аранжированной электрод применения силы сопротивляться субстрат для образования пленки расположил в камеру вакуума, после того как я охарактеризован в том по крайней мере сказанную часть введения газа сыройа материал или часть высасывания обеспечен при отверстие регулируя член имея заданную толщину для перехватывать плазму, и аранжированы, что удовлетворяют электрод применения силы и отверстие регулируя член уровнение а или c.gtoreq.b, с существованием скоро расстоянием между электродом применения силы и отверстием регулируя член обеспечило на части введения газа сыройа материал, ч скоро расстояние между электродом применения силы и отверстием регулируя член обеспеченный на части высасывания, и б среднее расстояние между субстратом и стороной горизонтальной плоскости электрода применения силы который сопротивляется к стороне субстрата.
