A method of delivering two or more mutually-reactive reaction gases when a predetermined film is deposited on a substrate, and a shower head used in the gas delivery method, function to increase the film deposition rate while preventing formation of contaminating particles. In this method, one reaction gas is delivered toward the edge of the substrate, and the other reaction gases are delivered toward the central portion of the substrate, each of the reaction gases being delivered via an independent gas outlet to prevent the reaction gases from being mixed. In the shower head, separate passages are provided to prevent the first reaction gas from mixing with the other reaction gases by delivering the first reaction gas from outlets formed around the edge of the bottom surface of the shower head. The other reaction gases are delivered from outlets formed in the central portion of the bottom surface of the shower head. Accordingly, one of the mutually-reactive gases is delivered toward the central portion of the substrate, and the others are delivered toward the edge of the substrate.

Une méthode de livrer des gaz de réaction deux ou mutuel-réactifs quand un film prédéterminé est déposé sur un substrat, et une tête de douche ont employé dans la méthode de la livraison de gaz, fonction pour augmenter le taux de dépôt de film tout en empêchant la formation des particules étrangères. Dans cette méthode, un gaz de réaction est fourni vers le bord du substrat, et les autres gaz de réaction sont fournis vers la partie centrale du substrat, chacune des gaz de réaction étant livrés par l'intermédiaire d'une sortie indépendante de gaz pour empêcher les gaz de réaction d'être mélangé. Dans la tête de douche, des passages séparés sont fournis pour empêcher le premier gaz de réaction de se mélanger aux autres gaz de réaction en fournissant le premier gaz de réaction des sorties formées autour du bord du fond de la tête de douche. Les autres gaz de réaction sont fournis des sorties formées dans la partie centrale du fond de la tête de douche. En conséquence, un des gaz mutuel-réactifs est fourni vers la partie centrale du substrat, et les autres sont livrés vers le bord du substrat.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Musical device having multiple configurations and methods of using the same

> Semiconductor memory device having source areas of memory cells supplied with a common voltage

> (none)

~ 00050