New photoacid generator compounds ("PAGs") are provided and photoresist compositions that comprise such compounds. In particular, non-ionic PAGs are provided that contain an oxime sulfonate group, and/or an N-oxyimidosulfonate group. PAGs of the invention are particularly useful as photoactive components of photoresists imaged at short wavelengths such as 248 nm, 193 nm and 157 nm.

Neue photoacid Generatormittel ("PAGs") werden und Photoresistaufbau zur Verfügung gestellt, der solche Mittel enthalten. Insbesondere sind nichtionogenes PAGs, vorausgesetzt daß eine Oximsulfonatgruppe enthalten Sie, und/oder eine N-oxyimidosulfonate Gruppe. PAGs der Erfindung sind als photoactive Bestandteile der Photoresists besonders nützlich, die an den kurzen Wellenlängen wie 248 nm, 193 nm und 157 nm abgebildet sind.

 
Web www.patentalert.com

< Photoresist monomer, polymer thereof and photoresist composition containing it

< Glare-resistant touch panel

> Catalyst compositions and processes for olefin oligomerization and polymerization

> Copolymers of norbornene and functional norbornene monomers

~ 00051