The present invention provides novel bicyclic photoresist monomers, and photoresist copolymer derived from the same. The bicyclic photoresist monomers of the present invention comprise both amine functional group and acid labile protecting group, and are represented by the formula: ##STR1## where m, n, R, V and B are those defined herein. The photoresist composition comprising the photoresist copolymer of the present invention has excellent etching resistance and heat resistance, and remarkably enhanced PED stability (post exposure delay stability).

Η παρούσα εφεύρεση παρέχει τα νέα ποδηλατικά photoresist μονομερή, και photoresist copolymer που προέρχεται από το ίδιο πράγμα. Τα ποδηλατικά photoresist μονομερή της παρούσας εφεύρεσης περιλαμβάνουν και τη λειτουργική ομάδα αμινών και την όξινη ασταθή προστατεύοντας ομάδα, και αντιπροσωπεύονται από τον τύπο: ## STR1 ## όπου το μ, το ν, το ρ, τα Β και το β είναι εκείνοι που καθορίζονται εν τω παρόντι. Η photoresist σύνθεση που περιλαμβάνει photoresist copolymer της παρούσας εφεύρεσης έχει την άριστη αντίσταση χαρακτικής και την αντίσταση θερμότητας, και την εντυπωσιακά ενισχυμένη ped σταθερότητα (μετα σταθερότητα καθυστέρησης έκθεσης).