The present invention relates to a cross-linker for use in a photoresist which is suitable for a photolithography process using KrF (248 ru), ArF (193 nm), E-beam, ion beam or EUV light source. According to the present invention, preferred cross-linkers comprise a copolymer having repeating units derived from: (i) a compound represented by following Chemical Formula 1 and/or (ii) one or more compound(s) selected from the group consisting of acrylic acid, methacrylic acid and maleic anhydride. ##STR1## wherein, R.sub.1, R.sub.2 and R individually represent straight or branched C.sub.1-10 alkyl, straight or branched C.sub.1-10 ester, straight or branched C.sub.1-10 ketone, straight or branched C.sub.1-10 carboxylic acid, straight or branched C.sub.1-10 acetal, straight or branched C.sub.1-10 alkyl including at least one hydroxyl group, straight or branched C.sub.1-10 ester including at least one hydroxyl group, straight or branched C.sub.1-10 ketone including at least one hydroxyl group, straight or branched C.sub.1-10 carboxylic acid including at least one hydroxyl group, and straight or branched C.sub.1-10 acetal including at least one hydroxyl group; R.sub.3 represents hydrogen or methyl; m represents 0 or 1; and n represents a number of 1 to 5.

Die anwesende Erfindung bezieht auf einem Cross-linker für Gebrauch in einem Photoresist, der für eine photolithographie verwendendes ProzeßkrF (248 ru), ArF (193 nm), E-Lichtstrahl, Ionenlichtstrahl oder EUV Lichtquelle verwendbar ist. Entsprechend der anwesenden Erfindung enthalten bevorzugte Cross-linkers ein Copolymer, welches das Wiederholen der Maßeinheiten hat, die von abgeleitet werden: (i) ein Mittel dargestellt durch folgende chemische Formel 1 und/oder (ii) eine oder mehr Verbindung(en) vorgewählt von der Gruppe, die aus Acrylsäure, Methacryl- Säure und bösartigem Anhydrid besteht. ## STR1 ## worin, R.sub.1, R.sub.2 und R einzeln gerade oder ausgebrittenes Alkyl C.sub.1-10, gerade oder ausgebrittener Ester C.sub.1-10, gerade oder ausgebrittenes Keton C.sub.1-10, gerade oder ausgebrittene karboxylhaltige Säure C.sub.1-10, gerade oder ausgebrittenes Acetal C.sub.1-10, gerade oder ausgebrittenes Alkyl C.sub.1-10 einschließlich mindestens eine Hydroxylgruppe, gerade oder ausgebrittener Ester C.sub.1-10 einschließlich mindestens eine Hydroxylgruppe, gerade oder ausgebrittenes Keton C.sub.1-10 einschließlich mindestens eine Hydroxylgruppe, gerade oder ausgebrittene karboxylhaltige Säure C.sub.1-10 einschließlich mindestens eine Hydroxylgruppe und gerade oder ausgebrittenes Acetal C.sub.1-10 einschließlich mindestens eine Hydroxylgruppe darstellen; R.sub.3 stellt Wasserstoff oder Methyl dar; m stellt 0 oder 1 dar; und n stellt eine Anzahl von 1 bis 5 dar.

 
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< Photoresist monomer having hydroxy group and carboxy group, copolymer thereof and photoresist composition using the same

< Dental materials

> Catalyst composition and method of polymerization

> Palladium (II) catalyzed polymerization of norbornene and acrylates

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