The present invention relates to novel monomers which can be used to form polymers which are useful in a photolithography employing a light source in the far ultraviolet region of the light spectrum, copolymers thereof, and photoresist compositions prepared therefrom. Photoresist monomers of the present invention are represented by the following Chemical Formula 1: ##STR1## wherein, R is substituted or non-substituted linear or branched (C.sub.1 -C.sub.10) alkyl, substituted or non-substituted (C.sub.1 -C.sub.10) ether, substituted or non-substituted (C.sub.1 -C.sub.10) ester, or substituted or non-substituted (C.sub.1 -C.sub.10) ketone; X and Y are independently CH.sub.2, CH.sub.2 CH.sub.2, oxygen or sulfur; and i is 0 or an integer of 1 to 2.

Die anwesende Erfindung bezieht auf Romanmonomeren, die benutzt werden können, um Polymer-Plastiken zu bilden, die in einer photolithographie nützlich sind, die eine Lichtquelle in der weit ultravioletten Region des hellen Spektrums, der Copolymere davon und des Photoresistaufbaus daher vorbereitet wird einsetzt. Photoresistmonomeren der anwesenden Erfindung werden durch die folgende chemische Formel 1 dargestellt: ## STR1 ## worin, R wird oder nicht-ersetzter linearer oder ausgebrittener (C.sub.1 - C.sub.10) des Alkyl, ersetzten oder nicht-ersetzten (C.sub.1 - C.sub.10) Äthers, ersetzter oder nicht-ersetzter ersetzt (C.sub.1 - C.sub.10) Ester oder ersetztes oder nicht-ersetztes (C.sub.1 - C.sub.10) Keton; X und Y sind unabhängig CH.sub.2, CH.sub.2 CH.sub.2, Sauerstoff oder Schwefel; und I ist 0 oder eine Ganzzahl von 1 bis 2.

 
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