The invention provides a novel metal complex which, when used with an activating cocatalyst, provides a novel catalyst composition. The invention also provides a polymerization method which utilizes the catalyst composition to produce polymers and copolymers containing polar monomer groups. More specifically, the invention comprises a composition comprising the formula LMXZ.sub.n wherein X is selected from the group consisting of halides, hydride, triflate, acetates, borates, C.sub.1 through C.sub.12 alkyl, C.sub.1 through C.sub.12 alkoxy, C.sub.3 through C.sub.12 cycloalkyl, C.sub.3 through C.sub.12 cycloalkoxy, aryl, thiolates, carbon monoxide, cyanate, olefins, and any other moiety into which a monomer can insert. M is selected from the group consisting of Cu, Ag, and Au. L is a nitrogen-containing bidentate ligand having more than two nitrogen atoms. Z is a neutral coordinating ligand and n equals 0, 1, or 2.

A invenção fornece um complexo do metal da novela que, quando usado com um cocatalyst ativando, forneça uma composição do catalizador da novela. A invenção fornece também um método da polimerização que utilize a composição do catalizador para produzir os polímeros e os copolymers que contêm grupos polares do monomer. Mais especificamente, a invenção compreende uma composição que compreende a fórmula LMXZ.sub.n wherein X é selecionado dos halides consistindo do grupo, do hydride, do triflate, dos acetatos, dos boratos, do C.sub.1 através do alkyl C.sub.12, do C.sub.1 com C.sub.12 alkoxy, do C.sub.3 com o cycloalkyl C.sub.12, do C.sub.3 com o cycloalkoxy C.sub.12, do arilo, dos thiolates, do monóxido de carbono, do cianato, dos olefins, e do qualquer outro moiety em que um monomer puder introduzir. M é selecionado do cu consistindo do grupo, AG, e o au. L é um ligand nitrogen-containing do bidentate que tem mais de dois átomos do nitrogênio. Z é um ligand de coordenação neutro e n iguala 0, 1, ou 2.

 
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< Copolymer resin, preparation thereof, and photoresist using the same

< Photoresist monomers, polymers thereof and photoresist compositions using the same

> Rubber composition for a conveyor belt

> Photoresist monomer having hydroxy group and carboxy group, copolymer thereof and photoresist composition using the same

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