Motion of a substrate-transporting robot arm is controlled in order to compensate for inaccuracies and deflections encountered during operation. The compensation is effected by synchronizing elevational and planar motions of the robot arm such that the trajectory of the substrate is made coincident with the object axis of the substrate. The substrate may be a semiconductor wafer, an LCD panel or an end effector of the robot arm. The synchronized motion is achieved using a controller issuing control signals to arm actuating means based on synchronization algorithms developed during analytical or experimental robot learning sessions.

De motie van een substraat-vervoerend robotwapen wordt gecontroleerd om onnauwkeurigheid en afbuigingen te compenseren die tijdens verrichting worden ontmoet. De compensatie wordt uitgevoerd door hoogte en vlakmoties van het robotwapen te synchroniseren dusdanig dat de baan van het substraat met de objecten as van het substraat samenvallend wordt gemaakt. Het substraat kan een halfgeleiderwafeltje, een LCD paneel of een eindeffector van het robotwapen zijn. De gesynchroniseerde motie wordt bereikt gebruikend een controlemechanisme die controlesignalen uitgeven aan wapen aandrijvende middelen die op synchronisatiealgoritmen worden gebaseerd die tijdens analytische of experimentele robot het leren zittingen worden ontwikkeld.