A digital photolithography system is provided that is capable of making smooth diagonal components. The system includes a computer for providing a first digital pattern to a digital pixel panel, such as a deformable mirror device (DMD). The DMD is capable of providing a first plurality of pixel elements for exposure onto a plurality of wafer sites. After exposure, the wafer can be scanned a distance less than the site length. The DMD then receives a second digital pattern for exposing a second plurality of pixel elements onto the plurality of sites of the subject. The exposed second plurality of pixel elements overlaps the exposed first plurality of pixel elements. This overlapping allows incremental changes to be made in the image being exposed, thereby accommodating the creation of diagonal components.

Ένα ψηφιακό σύστημα φωτολιθογραφίας παρέχεται που είναι σε θέση τα ομαλά διαγώνια συστατικά. Το σύστημα περιλαμβάνει έναν υπολογιστή για την παροχή ενός πρώτου ψηφιακού σχεδίου σε μια ψηφιακή επιτροπή εικονοκυττάρου, όπως μια παραμορφώσιμη συσκευή καθρεφτών (DMD). Το DMD είναι σε θέση μια πρώτη πολλαπλότητα των στοιχείων εικονοκυττάρου για την έκθεση επάνω σε μια πολλαπλότητα των περιοχών γκοφρετών. Μετά από την έκθεση, η γκοφρέτα μπορεί να ανιχνευθεί μια απόσταση λιγότερο από το μήκος περιοχών. Το DMD λαμβάνει έπειτα ένα δεύτερο ψηφιακό σχέδιο για την έκθεση μιας δεύτερης πολλαπλότητας των στοιχείων εικονοκυττάρου επάνω στην πολλαπλότητα των περιοχών του θέματος. Η εκτεθειμένη δεύτερη πολλαπλότητα των στοιχείων εικονοκυττάρου επικαλύπτει την εκτεθειμένη πρώτη πολλαπλότητα των στοιχείων εικονοκυττάρου. Αυτή η επικάλυψη επιτρέπει στις επαυξητικές αλλαγές για να γίνει στην εικόνα που εκτίθεται, με αυτόν τον τρόπο προσαρμόζοντας τη δημιουργία των διαγώνιων συστατικών.