An optical device with a defined total device stress (.sigma..sub.10) and a therefrom resulting defined birefringence in order to obtain a well defined optical polarization dependence is proposed. It comprises a lower cladding layer (3) with a first refractive index (n.sub.3), thereon an upper cladding layer (5) with a second refractive index (n.sub.5) and between an optical waveguide core (4) with a third refractive index (n.sub.4) which is bigger than the first refractive index (n.sub.3) and the second refractive index (n.sub.5). The optical waveguide core (4) has a waveguide core stress (.sigma..sub.4) resulting from the manufacturing process and the upper cladding layer (5) is manufactured to have an inherent cladding layer stress (.sigma..sub.5) which together with the waveguide core stress (.sigma..sub.4) results in the total device stress (.sigma..sub.10).

On propose un circuit optique avec un effort total défini de dispositif (sigma..sub.10) et une biréfringence définie de là résultante afin d'obtenir une dépendance optique de polarisation définie par bien. Il comporte une couche inférieure de revêtement (3) avec un premier indice de réfraction (n.sub.3), là-dessus une couche supérieure de revêtement (5) avec un deuxième indice de réfraction (n.sub.5) et entre un noyau optique de guide d'ondes (4) avec un troisième indice de réfraction (n.sub.4) qui est plus grand que le premier indice de réfraction (n.sub.3) et le deuxième indice de réfraction (n.sub.5). Le noyau optique de guide d'ondes (4) a un effort de noyau de guide d'ondes (sigma..sub.4) résulter du processus de fabrication et la couche supérieure de revêtement (5) est fabriquée pour avoir un effort inhérent de couche de revêtement (sigma..sub.5) qui ainsi que les résultats d'effort de noyau de guide d'ondes (sigma..sub.4) dans tout le dispositif souligne (sigma..sub.10).