Enol ethers of the formula (I) ##STR1## where R.sup.1 to R.sup.3 are each, independently of one another, hydrogen or a carbon-containing organic radical and R.sup.4 is an unsubstituted or substituted alkyl radical, are prepared by reacting alcohols of the formula (II) R.sup.4 --OH (II), with alkynes of the formula (IlIa), alkadienes of the formula (IIIb) R.sup.1 --C.ident.C--CHR.sup.2 R.sup.3 (IIIa), R.sup.1 --CH.dbd.C.dbd.CR.sup.2 R.sup.3 (IIIb) or mixtures thereof, where R.sup.1 to R.sup.4 are as defined above, in the presence of an alkali metal alkoxide and a polar, aprotic solvent.

Οι αιθέρες Enol του τύπου (I) ## STR1 ## όπου R.sup.1 σε R.sup.3 είναι κάθε ένα, ανεξάρτητα από το ένα άλλο, το υδρογόνο ή ένας άνθρακας-περιέχοντας οργανικοί ριζοσπάστης και ένα R.sup.4 είναι ένας unsubstituted ή αντικατασταθείς αλκυλικός ριζοσπάστης, προετοιμάζονται από τα αντιδρόντα οινοπνεύματα του τύπου (II) R.sup.4 OH (II), με alkynes του τύπου (IlIa), alkadienes του τύπου (IIIb) R.sup.1 -- C.ident.C -- CHR.sup.2 R.sup.3 (IIIa), R.sup.1 -- CH.dbd.C.dbd.CR.sup.2 R.sup.3 (IIIb) ή μίγματα επ' αυτού, όπου R.sup.1 σε R.sup.4 είναι όπως καθορίζονται ανωτέρω, παρουσία alkoxide αλκαλικών μετάλλων και ενός πολικού, απρωτονικού διαλύτη.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Alicyclic photosensitive polymer, resist composition containing the same and method of preparing the resist composition

> Image fixing apparatus and thin tube-like endless film having inner and outer layers

> (none)

~ 00056