Cyclic acetal compounds of formula (1) wherein k=0 or 1 and n is an integer of 0 to 6 are novel. Using the cyclic acetal compounds as a monomer, polymers are obtained. A resist composition comprising the polymer as a base resin is sensitive to high-energy radiation and has excellent sensitivity, resolution, and etching resistance. ##STR1##

Οι κυκλικές ενώσεις ακετάλης του τύπου (1) όπου k=0 ή 1 και το ν είναι ένας ακέραιος αριθμός 0 έως 6 είναι νέες. Χρησιμοποιώντας τις κυκλικές ενώσεις ακετάλης ως μονομερές, τα πολυμερή σώματα λαμβάνονται. Αντισταθείτε στη σύνθεση περιλαμβάνοντας το πολυμερές σώμα δεδομένου ότι μια ρητίνη βάσεων είναι ευαίσθητη στην υψηλής ενέργειας ακτινοβολία και έχει την άριστη ευαισθησία, την ανάλυση, και τη χάραξη της αντίστασης. ## STR1 ##