In one aspect, a vacuum chuck supports a substrate on an end effector, the vacuum chuck comprising a position reference structure and a suction cup. The position reference structure is mounted to the surface and comprises a reference surface. The suction cup is located proximate the reference surface and comprising a suction mount. In another aspect, a method of chucking a substrate to a vacuum chuck is provided. The vacuum chuck comprises a suction cup and a position reference structure. The method comprises attaching the suction cup to the substrate to form a seal therebetween. The suction cup is deformed such that the substrate contacts the position reference structure. The substrate is then leveled on the position reference structure.

Σε μια πτυχή, ένα κενό τσοκ υποστηρίζει ένα υπόστρωμα σε μια συσκευή επίδρασης τελών, το κενό τσοκ περιλαμβάνοντας μια δομή αναφοράς θέσης και ένα φλυτζάνι αναρρόφησης. Η δομή αναφοράς θέσης τοποθετείται στην επιφάνεια και περιλαμβάνει μια επιφάνεια αναφοράς. Το φλυτζάνι αναρρόφησης είναι τοποθετημένο εγγύτατο η επιφάνεια αναφοράς και περιλαμβάνοντας μια αναρρόφηση τοποθετήστε. Σε μια άλλη πτυχή, μια μέθοδος ένα υπόστρωμα σε ένα κενό τσοκ παρέχεται. Το κενό τσοκ περιλαμβάνει ένα φλυτζάνι αναρρόφησης και μια δομή αναφοράς θέσης. Η μέθοδος περιλαμβάνει την ένωση του φλυτζανιού αναρρόφησης με το υπόστρωμα για να διαμορφώσει μια σφραγίδα. Το φλυτζάνι αναρρόφησης είναι παραμορφωμένο έτσι ώστε το υπόστρωμα έρχεται σε επαφή με τη δομή αναφοράς θέσης. Το υπόστρωμα ισοπεδώνεται έπειτα στη δομή αναφοράς θέσης.