A layer of a metal is electroplated onto an electrically conducting
substrate having a generally smooth surface with a small recess therein,
having a transverse dimension not greater than about 350 micrometers,
typically from about 5 micrometers to about 350 micrometers, by immersing
the substrate and a counterelectrode in an electroplating bath of the
metal to be electroplated and passing a modulated reversing electric
current between the electrodes. The current contains pulses that are
cathodic with respect to said substrate and pulses that are anodic with
respect to said substrate. The cathodic pulses typically have a duty cycle
less than about 50% and the anodic pulses have a duty cycle greater than
about 50%, the charge transfer ratio of the cathodic pulses to the anodic
pulses is greater than one, and the frequency of the pulses ranges from
about 10 Hertz to about 12000 Hertz. The on-time of the cathodic pulses
may range from about 0.83 microseconds to about 50 milliseconds. The
anodic pulse is longer than the cathodic pulse and may range from about 42
.mu.s to about 99 milliseconds. The plating bath may be substantially
devoid of levelers and/or brighteners.
Uma camada de um metal electroplated em uma carcaça eletricamente conduzindo que tem uma superfície geralmente lisa com um rebaixo pequeno nisso, tendo uma dimensão transversal não mais extremamente do que aproximadamente 350 micrômetros, tipicamente de aproximadamente 5 micrômetros a aproximadamente 350 micrômetros, immersing a carcaça e um counterelectrode em um banho electroplating do metal para ser electroplated e passando uma corrente elétrica invertendo modulada entre os elétrodos. A corrente contem os pulsos que são cathodic com respeito a carcaça dita e a pulsos que são anodic com respeito a carcaça dita. Os pulsos cathodic têm tipicamente um ciclo de dever mais menos do que aproximadamente 50% e os pulsos anodic têm um ciclo de dever mais extremamente do que aproximadamente 50%, a relação de transferência da carga dos pulsos cathodic aos pulsos anodic é mais grande de uma, e a freqüência dos pulsos varia de aproximadamente 10 Hertz a aproximadamente 12000 Hertz. O tempo ligado dos pulsos cathodic pode variar de aproximadamente 0.83 microssegundo a aproximadamente 50 milissegundos. O pulso anodic é mais longo do que o pulso cathodic e pode variar de aproximadamente 42 mu.s a aproximadamente 99 milissegundos. O banho do chapeamento pode ser substancialmente devoid dos levelers e/ou dos brighteners.