Disclosed herein is a method of processing exposure mask-pattern data. The method comprises the steps of performing a re-sizing process of adding a prescribed positive bias .DELTA. to design data of an exposure mask pattern, thereby forming first mask-pattern data, performing a corner process on each corner represented by the first mask-pattern data, thereby forming second mask-pattern data, and performing a re-sizing process of adding a prescribed negative bias .DELTA.' to the second mask-pattern data, thereby forming third mask-pattern data.

Révélée ci-dessus est une méthode de traiter des données de masque-modèle d'exposition. La méthode comporte les étapes d'effectuer un processus remettant à la côte d'ajouter un DELTA polarisé positif prescrit. aux données de conception d'un modèle de masque d'exposition, formant de ce fait des premières données de masque-modèle, effectuant un processus faisant le coin sur chaque coin représenté par les premières données de masque-modèle, formant de ce fait des deuxièmes données de masque-modèle, et effectuant un processus remettant à la côte d'ajouter un DELTA polarisé négatif prescrit.' aux deuxièmes données de masque-modèle, formant de ce fait des troisième données de masque-modèle.