Disclosed herein are polymerizable compounds represented by the following formula (1): ##STR1## wherein one of R.sup.1 and R.sup.2 represents an alkyl group, which has 1 to 4 carbon atoms and is other than a tert-butyl group, and the other represents a hydrogen atom or an alkyl group which has 1 to 4 carbon atoms and is other than a tert-butyl group, R.sup.3 to R.sup.9 each independently represent a hydrogen atom, a silyl group, a cyano group, a hydroxyl group, a halogen atom or a monovalent nonpolymerizable organic substituent group, and A represents a polymerizable group having a carbon-carbon double bond; polymers obtained by singly polymerizing the polymerizable compounds or copolymerizing them with copolymerizable compounds; and resist compositions comprising the polymers. These polymers are useful as base polymers for resist materials for an exposure light source of a short wavelength.

São divulgados nisto os compostos polymerizable representados pela seguinte fórmula (1): ## do ## STR1 wherein um de R.sup.1 e R.sup.2 representa um grupo alkyl, que tenha 1 4 átomos de carbono e seja à excepção de um grupo tert-tert-butyl, e o outro representa um átomo do hidrogênio ou um grupo alkyl que tenha 1 a 4 átomos de carbono e seja à excepção de um grupo tert-tert-butyl, R.sup.3 a R.sup.9 que cada um representa independentemente um átomo do hidrogênio, a um grupo do silyl, a um grupo cyano, a um grupo do hydroxyl, a um átomo do halogênio ou a um grupo orgânico nonpolymerizable monovalent do substituent, e A representa um grupo polymerizable que tem uma ligação dobro do carbono-carbono; polímeros obtidos única polimerizando os compostos polymerizable ou copolymerizing os com compostos copolymerizable; e resista as composições que compreendem os polímeros. Estes polímeros são úteis porque os polímeros baixos para resistem materiais para uma fonte clara da exposição de um wavelength curto.