An objective with lenses made of two different crystals, in particular CaF.sub.2 and BaF.sub.2 is particularly suitable as a refractive projection objective for microlithography at 157 nm. Such projection objectives for 193/248 nm with quartz glass and achromatization with CaF.sub.2 are compaction-resistant with BaF.sub.2. Microlithography projection exposure equipment in the 100-200 nm wavelength region include other fluorides and partially catadioptric objectives.

Um objetivo com as lentes feitas de dois cristais diferentes, em CaF.sub.2 e em BaF.sub.2 particulares é particularmente apropriado como um objetivo refractive da projeção para o microlithography em 157 nm. Tais objetivos da projeção para 193/248 de nm com vidro e achromatization de quartzo com CaF.sub.2 são compaction-resistentes com BaF.sub.2. O equipamento da exposição da projeção de Microlithography na região do wavelength de 100-200 nm inclui outros fluoretos e objetivos parcialmente catadioptric.