A lithographic apparatus has at least one compartment closely surrounding at least one of the mask and substrate holders but not either of the illumination or projection systems so as to reduce the volume that must be purged with gas transparent to the projection radiation. In a scanner, the compartment surrounding the mask holder preferably moves with the mask table and may be formed by a combination of a frame-shaped mask table driven in the scanning operation and stationary plates fixed relative to the projection and illumination systems.

Ein lithographischer Apparat hat mindestens ein Fach, einen der mindestens Schablone und Substrathalter aber nicht entweder der Ablichtung oder Projektion Systeme nah zu umgeben, um das Volumen zu verringern, das mit dem Gas bereinigt werden muß, das zur Projektion Strahlung transparent ist. In einem Scanner bewegt das Fach, das den Schablone Halter umgibt vorzugsweise, mit der Schablone Tabelle und kann durch eine Kombination einer Rahmen-geformten Schablone Tabelle gebildet werden, die in den Abtastungbetrieb und in die stationären Platten geregelt werden im Verhältnis zu den Projektion und Ablichtung Systemen gefahren wird.