The methods of forming a chemically adsorbed film by contacting a substrate with a solution mixture containing an alkoxysilane surface active agent, a non-aqueous solvent and a silanol-condensing catalyst to form a film covalently bonded to the substrate via siloxane bonds. These methods do not generate hydrochloric acid gas in forming the films and allow practical reaction rates.

De methodes om een chemisch geadsorbeerde film te vormen door een substraat met een oplossingsmengsel te contacteren dat een alkoxysilane capillair-actieve agent, een niet-waterachtig oplosmiddel en een silanol-condenserende katalysator bevat om een film te vormen covalent in entrepot op het substraat via siloxane banden. Deze methodes produceren hydrochloric zuur geen gas in het vormen van de films en staan praktische reactietarieven toe.