A method and apparatus for plasma waste disposal of hazardous waste material, where the hazardous material is volatilized under vacuum inside a containment chamber to produce a pre-processed gas as input to a plasma furnace including a plasma-forming region in which a plasma-forming magnetic field is produced. The pre-processed gas is passed at low pressure and without circumvention through the plasma-forming region and is directly energized to an inductively coupled plasma state such that hazardous waste reactants included in the pre-processed gas are completely dissociated in transit through the plasma-forming region. Preferably, the plasma-forming region is shaped as a vacuum annulus and is dimensioned such that there is no bypass by which hazardous waste reactants in the pre-processed gas can circumvent the plasma-forming region. The plasma furnace is powered by a high frequency power supply outputting power at a fundamental frequency. The power supply contains parasitic power dissipation mechanisms to prevent non-fundamental, parasitic frequencies from destabilizing the fundamental frequency output power. These power loss mechanisms use either distributed resistance or frequency-selective power-loss devices to prevent parasitic oscillations from instantaneously turning on the high frequency power oscillator at non-fundamental frequencies.

Eine Methode und ein Apparat für Abfallbeseitigung des Plasmas des gefährlichen Abfalls, in dem das gefährliche Material unter Vakuum innerhalb eines Eindämmungraumes verdampft wird, um ein vorbearbeitetes Gas als Eingang zu einem Plasmaofen einschließlich eine Plasma-bildenregion zu produzieren, in der eine magnetische Plasma-Formung auffangen, wird produziert. Das vorbearbeitete Gas wird mit Niederdruck und ohne circumvention durch die Plasma-bildenregion geführt und wird direkt zu einem induktiv verbundenen Plasmazustand so angezogen, daß die gefährliche Vergeudung Reaktionsmittel, die im vorbearbeiteten Gas eingeschlossen sind, vollständig bei dem Transport durch die Plasma-bildenregion getrennt werden. Vorzugsweise wird die Plasma-bildenregion da ein Vakuumring geformt und wird so bemessen, daß es keine Überbrückung gibt, durch die gefährliche Vergeudung Reaktionsmittel im vorbearbeiteten Gas die Plasma-bildenregion verhindern können. Der Plasmaofen wird durch ein Hochfrequenzspg.Versorgungsteil angetrieben, das Energie bei einer Grundfrequenz ausgibt. Das Spg.Versorgungsteil enthält parasitsche Energie Ableitung Einheiten, um die nicht-grundlegenden, parasitschen Frequenzen am Entstabilisieren der Grundfrequenzausgang Energie zu verhindern. Diese Leistungsabfalleinheiten benutzen entweder verteilten Widerstand oder Frequenz-vorgewählte Energie-Verlust Vorrichtungen, um parasitsche Pendelbewegungen an auf den Hochfrequenzenergie Oszillator bei nicht-grundlegenden Frequenzen blitzschnell sich drehen zu verhindern.