Processes for coating three dimensional inorganic substrates, with shielded surfaces, with metal oxide-containing coatings are disclosed. Such processes comprise contacting a substrate with a metal oxide precursor reactant mixture at fast reaction and elevated temperature reaction conditions maintained by an RF induction plasma thermal source, to form a substrate containing metal oxide on at least a portion of the three dimensions and shielded surfaces of the substrate. Also disclosed are substrates coated with metal oxide-containing coatings for use in various applications including catalysis, shielding, electrostatic dissipation and battery applications.

De processen om driedimensionele anorganische substraten, met beschermde oppervlakten, met metaal oxyde-bevattende deklagen met een laag te bedekken worden onthuld. Dergelijke processen bestaan uit het contacteren van een substraat met een mengsel van de de voorloperreactant van het metaaloxyde bij snelle reactie en de opgeheven voorwaarden van de temperatuurreactie die door een van het de inductieplasma van rf thermische bron wordt gehandhaafd, een substraat te vormen dat metaaloxyde op minstens een gedeelte de drie afmetingen en beschermde oppervlakten van het substraat bevat. Ook onthuld worden de substraten die met metaal oxyde-bevattende deklagen met een laag worden bedekt voor gebruik in diverse toepassingen met inbegrip van katalyse, beveiliging, elektrostatische dissipatie en batterijtoepassingen.