A method for etching a feature in a platinum layer 834 overlying a second material 818 without substantially etching the second material. The method includes the the steps of: forming an adhesion-promoting layer 824 between the platinum layer and the second material; forming a hardmask layer 829 over the platinum layer; patterning and etching the hardmask layer in accordance with desired dimensions of the feature; and etching portions of the platinum layer not covered by the hardmask layer 832, the etching stopping on the adhesion-promoting layer. In further embodiments the adhesion-promoting and hardmask layers are Ti--Al--N including at least 1% of aluminum.

Um método para gravar uma característica em uma camada 834 da platina que overlying um segundo material 818 sem substancialmente gravar o segundo material. O método inclui o as etapas de: dando forma a uma camada adesão-promovendo 824 entre a camada da platina e o segundo material; dando forma a um hardmask mergulhe o excesso 829 a camada da platina; modelar e gravar o hardmask mergulham de acordo com dimensões desejadas da característica; e as parcelas gravura a água-forte da platina mergulham não coberto pela camada 832 do hardmask, gravura a água-forte que para na camada adesão-promovendo. Em umas incorporações mais adicionais as camadas adesão-promover e de hardmask são ti -- al -- N including ao menos 1% do alumínio.