A method of forming a reflecting surface on an optical component is disclosed. The method includes forming a first mask so as to protect a ridge region of a light transmitting medium. The ridge region is a region where a ridge of a waveguide will be formed. The method also includes performing a first etch of the light transmitting medium so as to form a side of the ridge. The first mask defines a profile of the side of the ridge during the first etch. The method further includes performing a second etch of the light transmitting medium so as to form the reflecting surface. The first mask defines a profile of the reflecting surface during the second etch.

Une méthode de former une surface se reflétante sur un composant optique est révélée. La méthode inclut former un premier masque afin de protéger une région d'arête d'un milieu de transmission léger. La région d'arête est une région où une arête d'un guide d'ondes sera formée. La méthode inclut également exécuter première gravure à l'eau forte du milieu de transmission léger afin de former un côté de l'arête. Le premier masque définit un profil du côté de l'arête pendant première gravure à l'eau forte. La méthode autre inclut exécuter deuxième gravure à l'eau forte du milieu de transmission léger afin de former la surface se reflétante. Le premier masque définit un profil de la surface se reflétante pendant deuxième gravure à l'eau forte.