Photoresist compositions and methods are provided for preparing photoresist films that are stable and impermeable to a broad range of organic solvents. Photoresist films provided herein may be photopatterned by selectively applying light, and may be stripped from a surface using unreactive agents. Photopatterned films may be used, for example, to selectively direct organic reagents to a solid support for the purpose of performing regionally selective solid-phase chemical synthesis with micron-scale resolution.

Le composizioni ed i metodi nel photoresist sono forniti per la preparazione delle pellicole del photoresist che sono stabili ed impermeabili ad una vasta gamma di solventi organici. Le pellicole del photoresist fornite qui possono essere photopatterned selettivamente applicando la luce e possono essere messe a nudo da una superficie usando gli agenti non reattivi. Le pellicole di Photopatterned possono essere usate, per esempio, per dirigere selettivamente i reagenti organici verso un supporto solido allo scopo di effettuare regionalmente la sintesi chimica in fase solida selettiva con micron-regolano la risoluzione.