Compounds of formula I ##STR1## wherein Z.sup.1, Z.sup.2, X, R.sup.2 and R.sup.3 are as defined herein, are suitable as susceptibility reagents for use in susceptibility imaging.

Mittel von Formel I ## STR1 ##, worin Z.sup.1, Z.sup.2, X, R.sup.2 und R.sup.3 sind, wie hierin definiert, sind als Anfälligkeitreagenzien für Gebrauch in der Anfälligkeitbelichtung verwendbar.