A chemically-amplified, negative-acting, radiation-sensitive photoresist
composition that is developable in an alkaline medium, the photoresist
comprising:
a) a phenolic film-forming polymeric binder resin having ring bonded
hydroxyl groups;
b) a photoacid generator that forms an acid upon exposure to radiation, in
an amount sufficient to initiate crosslinking of the film-forming binder
resin;
c) a crosslinking agent that forms a carbonium ion upon exposure to the
acid from step b) generated by exposure to radiation, and which comprises
an etherified aminoplast polymer or oligomer;
d) a second crosslinking agent that forms a carbonium ion upon exposure to
the acid from step b) generated by exposure to radiation, and which
comprises either 1) a hydroxy substituted- or 2) a hydroxy C.sub.1
-C.sub.4 alkyl substituted-C.sub.1 -C.sub.12 alkyl phenol, wherein the
total amount of the crosslinking agents from steps c) and d) is an
effective crosslinking amount; and
e) a photoresist solvent,
and a process for producing a microelectronic device utilizing such a
photoresist composition.
Een chemisch-vergrote, negatief-handelt, radiation-sensitive photoresist samenstelling die in een alkalisch middel ontwikkelbaar is, photoresist bestaand uit: a) een phenolic film-forming polymere bindmiddelenhars die hydroxylgroepen heeft ring in entrepot; b) een photoacidgenerator die een zuur op blootstelling aan straling, vormt genoeg om te om het crosslinking van de film-forming bindmiddelenhars in werking te stellen; c) een crosslinking agent die een carboniumion op blootstelling aan het zuur van stap b) vormt die door blootstelling aan straling wordt geproduceerd, en die uit een etherified aminoplast polymeer of oligomer bestaat; d) een tweede crosslinking agent die een carboniumion op blootstelling aan het zuur van stap b) vormt die door blootstelling aan straling wordt geproduceerd, en die of 1) uit gesubstitueerd hydroxy - of 2) een hydroxy C.sub.1 bestaat - C.sub.4 alkyl substitueren-c.sub.1 - alkyl fenol C.sub.12, waarin het totale bedrag crosslinking agenten van stappen c) en d) een efficiënt het crosslinking bedrag is; en e) een photoresist oplosmiddel, en een proces om een micro-electronisch apparaat te produceren dat een dergelijke photoresist samenstelling gebruikt.
