In the display device (10), at least one of a scanning line (2) and a signal line (3) is a multi-layer wiring including first and second conductive layers (3a, 3b), and the multi-layer wiring (3) includes a low-stacked region (3') where the second conductive layer (3b) is not formed.

Nel visualizzatore (10), almeno uno di una linea di scansione (2) e di un segnale (3) è i collegamenti a più strati compresi strati in primo luogo ed in secondo luogo conduttivi (3a, 3b) ed i collegamenti a più strati (3) includono una regione basso-impilata (3') dove il secondo strato conduttivo (3b) non è formato.

 
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> Semiconductor device and method for manufacturing the same

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