An optical waveguide device having a large difference in specific refractive index and manufacturing method therefor. An embedded silicon oxide layer of a Silicon on Insulator substrate is used as an under cladding 102, a core 103 is formed by processing the silicon layer of this Silicon on Insulator substrate, and an upper cladding 104 is formed by depositing a silicon oxide film on the surface of the Silicon on Insulator substrate. Because the difference in refractive index between silicon and silicon oxide is large, it is possible to achieve an optical waveguide with a large difference in specific refractive index. As a result of increasing the difference in specific refractive index of an optical waveguide, a smaller and lower-cost optical circuit can be achieved. In addition, because a Silicon on Insulator substrate is used, the number of manufacturing processes can be reduced.

Een optisch golfgeleiderapparaat dat een groot verschil in specifieke r i en productiemethode heeft daarvoor. Een ingebedde laag van het siliciumoxyde van een Silicium op het substraat van de Isolatie wordt gebruikt aangezien een onderbekleding 102, een kern 103 door de siliciumlaag van dit Silicium op het substraat van de Isolatie te verwerken wordt gevormd, en een hogere bekleding 104 wordt gevormd door een film van het siliciumoxyde op de oppervlakte van het Silicium op het substraat van de Isolatie te deponeren. Omdat het verschil in r i tussen silicium en siliciumoxyde groot is, is het mogelijk om een optische golfgeleider met een groot verschil in specifieke r i te bereiken. Als resultaat van het verhogen van het verschil in specifieke r i van een optische golfgeleider, kan een kleinere en goedkopere optische kring worden bereikt. Bovendien omdat een Silicium op het substraat van de Isolatie wordt gebruikt, kan het aantal productieprocessen worden verminderd.