A block copolymer including a block of residues of a low surface tension (meth)acrylate monomer; a block of residues of a monomer free of hydroxyl group and amine group residues; and, optionally, a third block of residues of a monomer free of hydroxyl groups and amine groups. The first, second and third blocks are made of different residues from each other and the block copolymer has a polydispersity index of less than 2.5. A controlled radical polymerization method is disclosed to make the low surface tension block copolymers. The method includes the steps of sequentially adding a first monomer composition that is free of hydroxyl groups and amine groups and a second monomer composition that includes the low surface tension monomer to a suitable atom transfer radical polymerization initiator and polymerizing the monomer compositions to form a block copolymer.

Een blokcopolymeer met inbegrip van een blok van residu's van een lage oppervlaktespanning (meth)acrylate monomeer; een blok van residu's van een monomeer vrij van hydroxylgroep en van de aminegroep residu's; en, naar keuze, een derde blok van residu's van een monomeer vrij van hydroxylgroepen en aminegroepen. De eerste, tweede en derde blokken worden gemaakt van verschillende residu's van elkaar en het blokcopolymeer heeft een polydispersity index van minder dan 2,5. Een gecontroleerde radicale polymerisatiemethode wordt onthuld om de lage het blokcopolymeren van de oppervlaktespanning te maken. De methode omvat de stappen van opeenvolgend het toevoegen van een eerste monomeersamenstelling die van van de hydroxylgroepen en amine groepen en een tweede monomeersamenstelling vrij is die het lage monomeer van de oppervlaktespanning omvat aan een geschikte de polymerisatie van de atoomoverdracht radicale initiatiefnemer en het polymeriseren van de monomeersamenstellingen om een blokcopolymeer te vormen.