A substrate processing chamber 25 comprising a substrate support 85, and a wall 24 about the substrate support 85, the wall 24 having a radiation absorbing surface 36 adapted to preferentially absorb radiation having wavelengths in the visible or infra-red spectrum.

Субстрат обрабатывая камеру 25 состоя из поддержки 85 субстрата, и стена 24 о поддержке 85 субстрата, стена 24 имея поверхность 36 радиации absorbing быть приспособленным преференциального для поглощения радиации имея длины волны в видимом или ультракрасном спектре.